欢迎光临武汉特博高科仪器设备有限公司网站!
诚信促进发展,实力铸就品牌
服务热线:

18062622139

相关文章

Related articles

产品展示 / products 您的位置:网站首页 > 产品展示 > 试验箱 > 冷却系统 > HMDS烘箱/HMDS涂胶系统
HMDS烘箱/HMDS涂胶系统

HMDS烘箱/HMDS涂胶系统

简要描述:HMDS烘箱/HMDS涂胶系统◆项目产品广泛应用于航空、航天、军工、舰船、汽车、石油化工等领域和高等院校及科研单位。

产品型号:

所属分类:冷却系统

更新时间:2021-03-18

厂商性质:生产厂家

详情介绍

HMDS烘箱/HMDS涂胶系统

产品用途

必要性: 

◆在半导体生产工艺中,光刻是至关重要的一个工艺环节,而涂胶工艺的好坏,直接影响到光刻的质量,所以涂胶也显得尤为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节有一点纰漏, 都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中,所用到的光可胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的化,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙和气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果显影。为了解决这一问题,涂胶工艺中引入了一种化学制剂,即HMNOS. 它的英文全名叫HexarmylrazaneHaiDri .化学名称六甲基二硅氮甲烷,把它涂到硅片表面后,通过加温可反应生产以硅氧烷为主题的化合物,这实际上是一-种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起到耦合作用,再者,在显影的过程中,由于它增强了光刻胶与基底的粘附力,从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。初,人们用液态的HMDs直接涂到晶片上,然后借着晶片的告诉旋转在晶片表面形成一层HMDs膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题,但随着光刻线条的越来越细,胶的越来越薄,对粘附力提出了更高的要求,于是我们研制出了现在的HMDS烘箱。

 

优点:

◆预处理性能更好:由于是在经过数次的氮气置換再进行的HDMS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将“去水烘烤”和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100200C的去水烘烤,再借着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

◆处理更加均匀:由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

◆效率高:液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。

◆更加节省药液:实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用的药液还多。

◆更加环保和安全: HMDS是有度化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵丑到尾气处理气处理机,所以也不会对环境造成污染。

 

HMDS烘箱/HMDS涂胶系统技术参数

◆内胆尺寸:300x300x300mm,450x450x450mm,550x650x550mm

◆真空度: 150Mpa ;采用真空泵

◆加热方式:腔体下部及两侧加温,加热器为内置加热板

◆温度: RT+10C -200C;微电脑温度控制器,控温准确可靠

◆控温精度: +2%C ( 200C内)

◆可放LED芯片(2寸/片) 100片左右

◆开箱温度可以由USER自行设定来降低process时间,政策工艺在50分钟-90分钟(按产品所霄而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温)。

◆整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。钢化、钢化玻璃门观察工作室内物体,一目了然。箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。



留言询价

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
上一篇:步入式环境试验室
下一篇:防爆烘箱

联系我们

contact us

咨询电话

扫一扫,关注我们

返回顶部